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1200℃集成型自動(dòng)小型PECVD系統(tǒng)

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G

所屬分類(lèi)：

PECVD系統(tǒng)/CVD系統(tǒng)

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產(chǎn)品描述
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商品名稱(chēng): 1200℃集成型自動(dòng)小型PECVD系統(tǒng)
商品編號(hào): 1034427118517051392

銷(xiāo)售熱線(xiàn)：15122725930（微信）

產(chǎn)品用途

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。

PECVD系統(tǒng)配置；

1.1200度開(kāi)啟式滑動(dòng)單溫區(qū)真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4.真空系統(tǒng)（單獨(dú)購(gòu)買(mǎi)）

產(chǎn)品特性;

電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區(qū)域長(zhǎng)；整管可調(diào)；精致小巧，性?xún)r(jià)比高，可實(shí)現(xiàn)快速升降溫，是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。

系統(tǒng)名稱(chēng)	集成型PECVD系統(tǒng)	1200℃小型PECVD系統(tǒng)
系統(tǒng)型號(hào)	PECVD-12IH-500A	PECVD-12IH-4Z/G
控制方式	液晶屏微PLC控制系統(tǒng)	手動(dòng)
最高溫度	1200℃
加熱區(qū)長(zhǎng)度	200mm
恒溫區(qū)長(zhǎng)度	100mm
溫區(qū)	單溫區(qū)
石英管管徑	Φ60mm	Φ50mm
額定功率	1.2Kw	2Kw
額定電壓	220V
滑動(dòng)方式及距離	自動(dòng)滑動(dòng);200mm	手動(dòng)滑動(dòng);200mm
溫度控制	30段程序控溫	50段程序控溫
控制精度	±1℃
爐管最高工作溫度	＜1200℃
氣路法蘭	采用多環(huán)密封技術(shù)卡箍快速連接
排風(fēng)冷卻裝置	先進(jìn)的空氣隔熱技術(shù)，結(jié)合熱感應(yīng)技術(shù)，當(dāng)爐體表面溫升到50℃時(shí)，排溫風(fēng)扇將自動(dòng)啟動(dòng)，使?fàn)t體表面快速降溫。
氣體控制方式	質(zhì)量流量計(jì)（按鍵式）
氣路數(shù)量	2路（2-4路）	4路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量）
流量范圍	0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分，可選配）氮?dú)鈽?biāo)定
精度	±1%F.S
響應(yīng)時(shí)間	1sec
工作溫度（流量計(jì)）	20-120℃
工作壓力	進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力）
進(jìn)氣方式	采用防倒流設(shè)計(jì)
規(guī)格	中真空（集成型請(qǐng)單獨(dú)購(gòu)買(mǎi)）
系統(tǒng)真空范圍	10Pa-100Pa
真空泵	雙級(jí)機(jī)械泵理論極限真空度3x10^-1Pa，抽氣速率4L/S（選配：其他抽速真空泵）,出氣口配有油污過(guò)濾器，額定電壓220V，功率0.55Kw
信號(hào)頻率	13.56MHz±0.005%
功率輸出范圍	0W-500W	0W-100W
最大反射功率	350W	30W
射頻輸出接口	50Ω，N-type,temale
功率穩(wěn)定度	±0.1%
諧波分量	≤-50dbc
供電電壓	單相交流（187V-253V)頻率50/60HZ
整機(jī)功率	≥70%
屏幕顯示	正方向功率，匹配器電容位置，偏置電壓值
爐體外形尺寸	290×350×340mm	290×350×495mm
系統(tǒng)外形尺寸	420×1440×1100mm	530×2310×750mm
系統(tǒng)總重量	270Kg

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